中国のウェハ製造が直面するボトルネック：先進技術の突破が難しい分析
中米の技術戦争が激化する中、アメリカはNVIDIAのH20チップの対中輸出を制限しました。アナリストの蔡明翰はウェブ番組『Catch大錢潮』で、中国の半導体技術はアメリカの封鎖によって急成長したが、先進的な露光機が入手できないため、将来的にはさらに突破することが難しいと指摘しました。
蔡明翰によれば、「トランプ1.0」時代から始まったアメリカによるファーウェイに対する封鎖は、中国が自らチップを生産する決意を促し、結果的に半導体の急成長を促進しました。ファーウェイのプロセスは7nmを使用し、NVIDIAは4nmを使用しています。2020年9月にファーウェイにチップを販売できなくなった後も、ファーウェイは100億ドル分のオーダーを確保し、中芯が7nmプロセスに追いつくようになり、ファーウェイの910Bチップは実質的にNVIDIAのH20に匹敵することになります。
しかし、最近アメリカがNVIDIAのH20を中国に販売することを禁じました。中国の設計能力は強く市場要求に応じているものの、アスモルの露光機も中国への輸出が制限され、企業は極紫外線（EUV）装置を入手できず、製造プロセスは7nmに留まっています。蔡明翰は、美中間の技術レベルの差は急速に縮小しているが、将来の突破は難しいだろうと考えています。トランプが中国の急成長を促したものの、理論的には今後も持続的に追いつくことは難しいです。
現在、中国株で注目されているのは「チップの追いつき」で、昨年経済は底を打った後、上昇する見込みですが、短期的なモメンタムが強い一方で、長期的な視点も重要です。司会者の王志郁氏は、中国株は投資対象としては不適切ではなく、全体的な市場が長期投資に適しているが、特にテクノロジーに特化する場合、短期的に見る必要があると述べました。
